繁体中文
设为首页
加入收藏
当前PCB技术首页 >-PCB技术资料 >> 多层板外层加工工艺介绍

多层板外层加工工艺介绍 (4)

2008-07-06 00:00:56  作者:  来源:网络  浏览次数:429  文字大小:【】【】【
多层板外层加工工艺介绍多层板外层加工工艺介绍-PCB技术,则
表吸真空良好。手动作业,时常作业员尚要以"刮刀"辅助刮除空气,此小动作事实上极易影响对位及底片的寿命。平行光
源则此问题可降至最低。
E. 对位
对于自动曝光机来说,偏位不是不问题,只要评估好设备的制程能力以及维护工作底片的准确度即可,但手动曝光
机作业影响对准度的变量就很多:
<1> PIN 孔大小的选择
<2> 上制程通孔电镀的厚度分析
<3> 孔位准确度
<4> 底片套板的方式
<5> 人目视误差
上述仅举常见因素,各厂应就产品层次来提升干膜作业的制程能力。
F. 静置
曝光后板子须问隔板置放 10~15 分钟让吸收 UV 能量后的 resist Film 聚合更完全。
G.高强度的 UV 光对细线路而言是十分重要的,因为所有的光阻都含有遮蔽剂 (Inhibitor),而此遮蔽剂遇 UV 光时会
在数秒内大量消耗。因此如果用弱光曝 光,则须用较长时间来达到必须的能量,如此有较多的时间让未见光区的遮蔽剂扩
散至曝光区,如此只要有一点折光或散射就会形成聚合,产生残胶显影不洁等问题。因此使用强光曝光机有助于细线的制
作,有残胶并不是代表只是显影不洁或水洗不良的问题。
一般而言 5mW/cm2 能量密度对一般的线路已有不错的效果,如果要有更佳的分辨率则高一些的光强度有助于改善
之。
H. 影响分辨率的因子互动关系有:(I)曝光时间长短(2)未曝光区遮蔽剂的量 (3)散射折射光的多少。其中第二项是来
自供货商的调配较无法调整,第(1)项可考虑控制光强度来改善其品质,第(3)项则使用平行曝光机及加强曝光前真空作业
会有帮助。2.4. 显像 Developing
2.4.1 槽液成份及作业条件
溶液配方 1-2%之碳酸钠(重量比)
温度 30 +_2 ℃
喷压15-20 PSI
水洗27°-29℃,水压 40 PSI
pH 10.5 -10.7,
Break point多层板外层加工工艺介绍多层板外层加工工艺介绍-PCB技术电子技术信息港
[1] [2] [3] [4] [5] [6] [7] [8]

相关文章
 

最新文章

更多

· COB基础知识

推荐文章

更多

· 暗房正负片在制作上的工...
· COB基础知识

热点文章

更多

· 暗房正负片在制作上的工...
· 板材补偿系数浅谈
· COB基础知识
· 用标准的SMT线来组装光电...