多层板外层加工工艺介绍 (4)
2008-07-06 00:00:56 作者: 来源: 网络 浏览次数: 429 文字大小:【 大】【 中】【 小】
多层板外层加工工艺介绍多层板外层加工工艺介绍-PCB技术,则 表吸真空良好。手动作业,时常作业员尚要以"刮刀"辅助刮除空气,此小动作事实上极易影响对位及底片的寿命。平行光 源则此问题可降至最低。 E. 对位 对于自动曝光机来说,偏位不是不问题,只要评估好设备的制程能力以及维护工作底片的准确度即可,但手动曝光 机作业影响对准度的变量就很多: <1> PIN 孔大小的选择 <2> 上制程通孔电镀的厚度分析 <3> 孔位准确度 <4> 底片套板的方式 <5> 人目视误差 上述仅举常见因素,各厂应就产品层次来提升干膜作业的制程能力。 F. 静置 曝光后板子须问隔板置放 10~15 分钟让吸收 UV 能量后的 resist Film 聚合更完全。 G.高强度的 UV 光对细线路而言是十分重要的,因为所有的光阻都含有遮蔽剂 (Inhibitor),而此遮蔽剂遇 UV 光时会 在数秒内大量消耗。因此如果用弱光曝 光,则须用较长时间来达到必须的能量,如此有较多的时间让未见光区的遮蔽剂扩 散至曝光区,如此只要有一点折光或散射就会形成聚合,产生残胶显影不洁等问题。因此使用强光曝光机有助于细线的制 作,有残胶并不是代表只是显影不洁或水洗不良的问题。 一般而言 5mW/cm2 能量密度对一般的线路已有不错的效果,如果要有更佳的分辨率则高一些的光强度有助于改善 之。 H. 影响分辨率的因子互动关系有:(I)曝光时间长短(2)未曝光区遮蔽剂的量 (3)散射折射光的多少。其中第二项是来 自供货商的调配较无法调整,第(1)项可考虑控制光强度来改善其品质,第(3)项则使用平行曝光机及加强曝光前真空作业 会有帮助。2.4. 显像 Developing 2.4.1 槽液成份及作业条件 溶液配方 1-2%之碳酸钠(重量比) 温度 30 +_2 ℃ 喷压15-20 PSI 水洗27°-29℃,水压 40 PSI pH 10.5 -10.7, Break point多层板外层加工工艺介绍多层板外层加工工艺介绍-PCB技术电子技术信息港
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