前端非接触电介质电学测试仪是工艺工程师的基本工具之一，它能够每天显示我们关心的电学测试参数，并且当某一参数超过限制时提供警报，显示可能的工艺偏移。在生产中，测试人员对关键工艺提供统计过程控制（SPC），fab靠这些结果来对生产线上的设备和工艺中的圆片做出正确的估计。　

　然而，部分是由于缺少好的测试方法，非接触测试仪目前做得并没有市场所期望的那样好。典型的情况是，测试仪的精度比基准圆片的还高，从而导致监控和测量结果没有稳定的参考，而使结果缺乏重复性。这样会很难判断炉管测试结果差，到底是由于炉管的沾污引起还是由不受控的测试仪造成的。　

　这是一个严重的事情。因为在现有的技术下，只有保证测试仪重复性，才有可能使高k材料和其他新的栅极材料之间的特征进行比较。一些关键的问题，比如界面悬挂键及其与器件可靠性之间的关系能够以一种更及时的方式来解决。同时，能够建立起一个数据基线来比较不同实验室之间的测试仪、发现有问题的测试仪、并在重新安装之后对它们检查。　

　由于没有可以接受的标准，质量检查程序中缺乏监督和控制这些测试仪的手段。传统的测试人员检查的参数包括：电介质厚度（Tox），界面陷阱密度(Dit)，平带电压(Vfb)和 移动电荷密度(Qm)。通过合适的参考圆片和测试技术得到的长期数据能使工程师把生产问题和测试问题区分开来。　

　International SEMATECH试图用室内的600 ASiO2圆片来建立这样的一个数据库。然而，在25次测量之后，其氧化层由于应力引起参数漂移，并且把圆片暴露在fab环境之后的短时间内，圆片表现出了潜在的不稳定性，这会导致结果不一致。

　　只有用一块高度一致的测试圆片，才有可能在有问题的地方建立一个好的用于工作的数据标准。它提供电介质测试标准的晶圆,电介质测试提供电介质测试标准的晶圆,电介质测试-PCB技术电子技术信息港