〈一〉 流程:
磨板→贴膜→曝光→显影
一、磨板
1、表面处理 除去铜表面氧化物及其它污染物。
a. 硫酸槽配制 H2SO4 1-3%(V/V)。
b. 酸洗不低于10S。
2、 测试磨痕宽度 控制范围10
D/F培训讲义(一) (1)D/F培训讲义(一)D/F培训讲义(一)-EDA技术, 〈一〉 流程: 磨板→贴膜→曝光→显影 一、磨板 1、表面处理 除去铜表面氧化物及其它污染物。 a. 硫酸槽配制 H2SO4 1-3%(V/V)。 b. 酸洗不低于10S。 2、 测试磨痕宽度 控制范围10 |
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